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企業介紹

蘇州施密科微電子設備有限公司成立于2017年，是一家集研發，生產，銷售為一體的濕法制程設備制造商。秉承“以人為本、精益求精、品質卓越、合作共贏”的經營理念，以優質的生產工藝、超高的品質控制、精細的設備管理，服務于晶圓襯底材料，化合物半導體、SAW、IGBT、MEMS、先進封裝等多個領域。

項目	數據
應用領域	RCA清洗,沉積前清洗,蝕刻后清洗,CMP后清洗,濕法刻蝕,EPI前清洗等
設備配置	4~16腔體(可定制) 支持2~4個CST/SMIF/FOUP上下料支持化學液自動供液CCSS,LCSS 加熱控制,濃度控制,流量控制,壓力控制等; 酸、堿、有機液排風分離; 支持化學液回收; 高清攝像頭，E-FLOW(可選); 全面支持SECS/GEM通訊協議
晶圓尺寸	100MM~300MM
工藝指標	蝕刻均勻性:片內:<3%;片間:<3%;批次間:<3%;
顆粒控制	增加輻層值<20顆@0.2微米(帶氧化硅膜測試,來料顆粒<50顆)
金屬離子	<5E9 ATOMS/CM2